一、集成電路布圖設計專有權的內容

1、復制權。是指權利人有權通過光學的、電子學的方式或其他方式來復制其受保護的布圖設計。

2、商業利用權。是指布圖設計權人享有的將受保護的布圖設計以及含有該受保護的布圖設計的集成電路或含有此種集成電路的產品進行商業利用的權利。

二、集成電路布圖設計專有權的法律保護

（一）保護期限

1、根據我國《條例》，布圖設計專有權的保護期為10年，自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算，以較前日期為準。

2、無論是否登記或投入商業利用，布圖設計自創作完成之日起15年后，不再受《條例》保護。

（二）侵權樣態：侵犯布圖設計的行為主要包括非法復制和非法進行商業利用。

（三）侵權責任

1、侵權責任的形式

我國《條例》規定了侵犯布圖設計專有權的民事和行政責任。

關于民事責任，侵權行為人必須立即停止侵權行為，并承擔賠償責任。

關于行政責任，國務院知識產權行政部門在處理因侵權而引起的糾紛時，如果認定侵權成立，可以責令侵權人立即停止侵權行為、沒收、銷毀侵權產品或物品

2、即發侵權的制止。布圖設計權利人或利害關系人有證據證明他人正在實施或即將實施侵犯其專有權的行為，如不及時制止將會使其合法權益受到難以彌補的損害的，可以在起訴前依法向人民法院申請采取責令停止有關行為和財產保全的措施。

三、集成電路布圖設計專有權的限制

1、合理使用或利用

（1）為個人目的而復制

為個人目的而復制受保護的不圖設計可不經權利人許可，不向其支付費用；

（2）供教學研究而復制

單純為評價、分析、研究、教學等目的而復制受保護的布圖設計的，可不經權利人許可，不向其支付報酬。

2、反向工程。是指對他人的布圖設計進行分析、評價，然后根據這種分析評價的結果創作出新的布圖設計。

3、權利窮竭。是指布圖設計權人或經其授權的人，將受保護的布圖設計或含有該布圖設計的半導體集成電路產品投入市場以后，對與該布圖設計或該半導體集成電路產品有關的任何商業利用行為，不再享有權利，任何人均可不經權利人或者其授權的人同意并不向其支付報酬，而進口、分銷或以其他方式進行轉讓，不構成對權利人權利的侵犯。

4、善意買主。在獲得含有受保護的布圖設計的集成電路或含有該集成電路的物品時，不知道也沒有合理理由應當知道其中含有非法復制的布圖設計，而將其投入商業利用的，不視為侵權。

5、強制許可。又稱非自愿許可，是指不經權利人同意的情況下由有關主管部門直接發放的使用許可，是對布圖設計權利人的一項重要限制