第五編 其他知識產權
第二十四章 集成電路布圖設計權
第一節 集成電路布圖設計概念
集成電路布圖設計,是指集成電路中至少有一個是有源元件的兩個以上元件和部分或者全部互連線路的三維配置,或者為制造集成電路而準備的上述三維配置。
第二節 集成電路布圖設計的立法保護
(一)集成電路布圖設計實質上是一種圖形設計,但并非是工業品外觀設計,不適用專利法保護,理由:
1、布圖設計并不取決于集成電路的外觀,而決定于集成電路中具有電子功能的每一元件的實際位置。
2、布圖設計景觀需要專家的大量勞動,但設計方案不會有多大的改變,其設計的主旨在于提高集成度,節約材料、降低能耗,因此不具備創造性的專門要求。
3、集成電路技術發展迅速,產品更新換代很快,其布圖設計不適宜采用耗費時間較多的專利審批程序。
(二)集成電路布圖設計是一種三維配置形態的圖形設計,但不屬于著作權法意義上的圖形作品或造型藝術作品,理由:
1、布圖設計由電子元件及其連線所組成,執行某種電子功能,不表現任何思想。
2、布圖設計是多個元件合理分布并相互關聯的三維配置,是一種電子產品,不以其“藝術性”作為法律保護條件3、著作權保護期長,如果將布圖設計作為一般作品保護,不利于集成電路產業的發展。
(三)各國大抵采取單行立法,確認布圖設計專有權,即給予其他知識產權的保護。
美國最先進行立法保護。世界知識產權組織在華盛頓召開的專門會議上通過《關于集成電路的知識產權條約》。我國《集成電路布圖設計保護條例》。
第三節 集成電路布圖設計專有權
是一項獨立的知識產權,是權利持有人對其布圖設計進行復制和商業利用的專有權利。
一、專有權的取得:
1、主體資格:中國自然人、法人或其他組織創作的布圖設計;外國人創作的布圖設計首先在中國境內投入商業利用的;外國人創作的布圖設計,其創作者所屬國同中國簽訂有關布圖設計保護協議或與中國共同參加有關布圖設計保護國際條約的,依照本條例享有布圖設計專有權。
2、客體條件:合格的客體必須是具有獨創性的布圖設計。
3、方式與程序:
(1)方式:自然取得、登記取得、使用與登記取得。(我國實行登記制度)
(2)程序(我國):申請、初審、登記并公告、對駁回申請的復審、登記的撤銷。
二、專有權的內容及其行使:(不含精神權利)
1、內容:(布圖設計權的權能)指權利的持有人對于權利的客體所能夠行使的權利。
(1)復制權:即專有權人有權通過光學的、電子學的方式或其他方式來復制其受保護的布圖設計。
(2)商業利用權:即專有權人享有將受保護的布圖設計以及含有該布圖設計的集成電路或含有此種集成電路的產品進行商業利用的權利。
2、布圖設計權的行使:
(1)自己對布圖設計進行復制或商業利用。
(2)將布圖設計權轉讓給他人所有。
(3)許可他人對布圖設計進行復制和商業利用。
三、專有權的保護:
1、保護期限:布圖設計保護期為10年,自布圖設計登記申請之日或在世界任何地方首次投入商業利用之日起計算,以較前日期為準,但無論是否登記或投入商業利用,布圖設計自創作完成之日起15年后,不再受《集成電路布圖設計保護條例》保護。
2、侵權責任及制止措施:
(1)民事責任:侵權行為人須立即停止侵權行為,并承擔賠償責任。賠償數額為侵權人所獲得的利益或被侵權人所受到的損失,包括被侵權人為制止侵權行為所支付合理開支。
(2)行政責任:責令停止侵權行為,沒收、銷毀侵權產品或物品。
(3)即發侵權的制止:可在起訴前依法向法院申請責令停止有關行為和財產保全的措施。
四、專有權的限制:
1、合理使用或利用:① 為個人目的復制。② 供教學研究而復制。
2、反向工程(還原工程)。指對他人的布圖設計進行分析、評價,然后根據分析評價的結果創作新的布圖設計。
3、權利窮竭。指布圖設計權人或經其授權的人,將受保護的布圖設計或含有該布圖設計的半導體集成電路產品投入市場后,對與該布圖設計或含有該布圖設計的半導體集成電路產品有關的任何商業利用行為,不再享有權利。(可不經權利人許可,不支付報酬)
4、善意買主。當善意買方因“不知”而從事了與權利人的專有權利相沖突的行為時,各國法律都給予豁免。
5、強制許可。指在不經權利人同意的情況下由有關主管部門直接發放的使用許可。
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